Pwosesis pwodiksyon metal Silisyòm sitou gen ladan etap sa yo:
1. Silica (sab) ak kabòn yo te fonn a 98% nan yon gwo founo elektrik arc pou fòme Silisyòm endistriyèl, ki te reyaji kòm SiO2 + C → Si + CO2.
2. Yo nan lòd yo satisfè bezwen yo nan semi-conducteurs klas segondè pite, pirifikasyon plis obligatwa. Silisyòm endistriyèl te pulverize epi li te reyaji ak anidrojèn Cl (HCl) nan yon kabann fluidize pou fòme trihydrosilicon (SiHCl). Reyaksyon chimik la te Si + HCl → SiHCl + H2.
3. sou baz sa a, plis pirifikasyon mande l, epi apre yon seri de separasyon chimik ak pirifikasyon pwosesis pou retire kèk électroactive impuretés, kabòn ak tranzisyon eleman impuretés, pouriti SiHCl3 ka ranpli kondisyon estanda semiconductor klas, ak reyaksyon chimik. se SiHCl3 + H2 → Si + HCl.
Atravè teknoloji pwosesis ki anwo a, nou ka pwodwi segondè pi bon kalite Silisyòm Si-HCl 3, Si-H2Cl 2 ak segondè pi bon kalite Silisyòm Si-Cl 4.
Kòm yon konpayi ki espesyalize nan pwodiksyon an nan Silisyòm metal, nou bay Silisyòm metal pa sèlman an akò strik ak pwosesis pwodiksyon an, men tou, asire ke bon jan kalite a nan Silisyòm metal se trè bon.
Please contact email jennywu@ns-ferroalloy.com or mobile +86 166 3835 9670 for specific quote!
